| 发明名称 |
PATTERN FORMING METHOD USING ARF PHOTORESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060028486(A) |
申请公布日期 |
2006.03.30 |
| 申请号 |
KR20040074499 |
申请日期 |
2004.09.17 |
| 申请人 |
DONGBU ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
JEONG, SEONG HEE |
| 分类号 |
H01L21/027;H01L21/3105;H01L21/32 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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