| 发明名称 | 光掩模用基板及其制造方法、光掩模坯料及光掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光掩模用基板、光掩模坯料及光掩模。本发明的光掩模用基板，具有由表面及背面构成的主表面、形成在基板厚度方向上的端面(T)、形成在所述端面(T)与表面及背面之间的倒角面(C)，并具有透光性，其特征在于：所述基板，其主表面的尺寸为，其一边(L)的长度大于等于300mm，所述端面(T)及所述倒角面(C)是表面粗度(Ra)为0.05～0.3μm的粗面。由此，可减少由侧面部发生的微粒，且在用手拿起其侧面部时不容易滑落的大型光掩模用基板。 | ||
| 申请公布号 | CN1248050C | 申请公布日期 | 2006.03.29 |
| 申请号 | CN200410029638.4 | 申请日期 | 2004.03.26 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 大田黑竜;桥口浩一 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 主权项 | 1.一种光掩模用基板，具有由表面及背面构成的主表面、形成在基板厚度方向上的端面、形成在所述端面与表面及背面之间的倒角面，并具有透光性，其特征在于：所述基板，其主表面的尺寸为，其一边的长度大于等于300mm，所述端面及所述倒角面是表面粗度Ra为0.03～0.3μm的粗面。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||