发明名称 |
干涉仪装置用光量比调节滤光片、干涉仪装置及光干涉测定方法 |
摘要 |
在干涉仪的基准面和被检测面之间配置光量比调节滤光片(112)。该光量比调节滤光片(112),是在由玻璃构成的透明基板的被测体(117)侧的面上,设置包括光反射吸收层(12a)和电介体防止反射层(12b)的光量比调节膜(12),而在基准面(116a)侧的面上设置防止光反射层(13),其作用是相对于从基准面对置面侧入射的入射光,反射其部分、吸收剩余部分之后将其余下部分向被测体(117)射出,另外,相对于从被测体(117)返回的返回光,吸收其部分、另方面抑制反射、将剩余作为被检测光向基准面(116a)方向射出。 |
申请公布号 |
CN1752712A |
申请公布日期 |
2006.03.29 |
申请号 |
CN200510103631.7 |
申请日期 |
2005.09.06 |
申请人 |
富士能株式会社 |
发明人 |
植木伸明 |
分类号 |
G01B9/02(2006.01) |
主分类号 |
G01B9/02(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
刘建 |
主权项 |
1.一种干涉仪装置用光量比调节滤光片,其自由插入脱离地配置在斐索型干涉仪装置的被测体和基准面之间,该斐索型干涉仪装置使从上述被测体发出的被检测光和从上述基准面发出的参照光发生干涉而获得该被测体的干涉波信息,其特征在于:在透明基板的上述被测体对置面或上述基准面对置面中任意一方的面上附着设置多层膜结构的光量比调节膜,该光量比调节膜由至少一层光反射吸收层和至少一层电介体防止反射层从上述基准面看以该顺序层叠而成;该光量比调节膜的膜构成是:相对于从上述透明基板的上述基准面对置面侧入射的入射光,反射其一部分、吸收剩余一部分后、再将其余下的光向上述被测体射出,并且,相对于从上述被测体对面侧入射的从上述被测体返回的返回光,吸收其一部分的同时、还抑制反射并将剩余的光作为上述被检测光向上述基准面方向射出。 |
地址 |
日本国埼玉县 |