| 发明名称 | 抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种辗轧减少剂，它含有一种或多种选自具有2-20个碳原子并具有OH基团(一个或多个)或SH基团(一个或多个)的羧酸、具有1-20个碳原子的单羧酸、具有2-3个碳原子的二羧酸及其盐的化合物；和一种辗轧减少剂组合物，它含有一种辗轧减少剂，该辗轧减少剂含有一种或多种选自具有2-20个碳原子并具有OH基团(一个或多个)或SH基团(一个或多个)的羧酸、具有1-20个碳原子的单羧酸、具有2-3个碳原子的二羧酸及其盐的化合物和研磨剂及水。 | ||
| 申请公布号 | CN1247731C | 申请公布日期 | 2006.03.29 |
| 申请号 | CN01117604.0 | 申请日期 | 2001.04.27 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 萩原敏也;藤井滋夫;大岛良晓 |
| 分类号 | C09K3/00(2006.01);C09G1/00(2006.01) | 主分类号 | C09K3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张宜红 |
| 主权项 | 1.一种抛光组合物，它含有：水；研磨剂；一种端面下垂减少剂，它含有一种或多种选自具有2-20个碳原子并具有一个或多个OH基团或一个或多个SH基团的羧酸、具有1-20个碳原子的单羧酸、具有2-3个碳原子的二羧酸及其盐的化合物；和中间氧化铝；其中所述的研磨剂是α-氧化铝，所述中间氧化铝的含量是1-100重量份，以100重量份α-氧化铝为基准。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||