发明名称 用于在光学系统中测量反射模式显示器的绝对光产出量的方法
摘要 一种在具有折返光径的光学系统中测量偏振调制反射型显示器绝对产出量的方法。其步骤包括在具有第一偏振光束分离器,和反射型显示器的折返光径中测量第一光强度,L<SUB>R</SUB>。第二光强度,LO,是通过采用以第二正交转动的偏振光束分离器来代替反射型显示器的非折返光径来测量的。计算了绝对产出量T<SUB>M</SUB>此处T<SUB>M</SUB>=L<SUB>R</SUB>/L<SUB>O</SUB>。
申请公布号 CN1247975C 申请公布日期 2006.03.29
申请号 CN01821670.6 申请日期 2001.05.03
申请人 3M创新有限公司 发明人 D·J·W·奥斯图恩;C·L·布鲁索内
分类号 G01M11/00(2006.01) 主分类号 G01M11/00(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 李家麟
主权项 1.一种在具有折返光径的光学系统中,用于测量一偏振调制反射型显示器之绝对光产出量的方法,其特征在于,该方法包括下述步骤:a)测量在所述折返光径中传递的第一光强度LR,其中第一偏振光束分离器折返由所述光学系统提供的一光束的第一偏振分量,并且透射所述光束的第二偏振分量,所述偏振分量中的一个分量经反射离开所述反射型显示器;b)测量在一非折返光径中由所述光学系统传递的第二光强度LO,在所述非折返光径中所述反射型显示器已被移走,所述非折返光径具有所述第一偏振光束分离器以及具有等效光学性能特性的第二正交转动偏振光束分离器,其中所述偏振光束分离器中的一个透射所述光束,而另一个反射所述光束;以及c)计算所述绝对产出量TM,此处TM=LR/LO。
地址 美国明尼苏达州