发明名称 成膜方法及装置、基板的制造方法及装置以及电子设备
摘要 本发明提供一种成膜方法,通过将液态材料粘覆在对象物(1)上形成具有给定周期的平面构造,采用以给定驱动周期(Td)供给液滴(4a)使液态材料可以粘覆在对象物(1)上的液滴供给装置(2)、并根据在对象物上应该形成的平面构造的周期性,按驱动周期的每个周期由液滴供给装置液滴控制供给的有无、液滴供给装置一边在扫描方向(X)以扫描速度(Vx)相对对象物扫描,一边由液滴供给装置的供给液滴。这时,将驱动周期和扫描速度的乘积的自然数倍数设定为在对象物上应该形成的平面周期结构在扫描方向上的结构周期。这样,在采用液滴供给装置将液态材料粘覆在对象物上的成膜方法中,可以降低用均匀化液态材料供给量都不能解决的成膜不均匀。
申请公布号 CN1248030C 申请公布日期 2006.03.29
申请号 CN200410028234.3 申请日期 2004.03.08
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 伊藤达也;大山武
分类号 G02F1/13(2006.01);G02B5/20(2006.01);B41J2/01(2006.01) 主分类号 G02F1/13(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种成膜方法,通过将液态材料粘覆在对象物上形成具有给定周期性的平面周期结构,其特征在于,采用以给定驱动周期供给液滴使所述液态材料可以粘覆在所述对象物上的液滴供给装置,并根据在所述对象物上应该形成的所述平面周期结构的周期性,在所述驱动周期的每个周期都控制是否由所述液滴供给装置供给所述液滴,所述液滴供给装置一边在给定扫描方向以给定扫描速度相对所述对象物相对扫描,一边通过所述液滴供给装置的控制供给所述液滴;设定所述驱动周期和所述扫描速度之乘积的自然数倍数为在所述对象物上应该形成的所述平面周期结构在所述扫描方向上的结构周期。
地址 日本东京