发明名称 |
烷类气体的净化设备的研制 |
摘要 |
本发明涉及在镓-铟合金中加入某种特殊活性物质,该活性物质对砷烷、磷烷、硅烷和硼烷等多种特气中有害痕量杂质氧、水和二氧化碳等具有强烈的“吸附”,而对主体的砷烷、磷烷、硅烷和硼烷等多种特气无任何化学反应。以该活性物质为主要手段,配合其他吸附剂、过滤器、阀门、管道、接头、流量计、和真空泵和电气(温度和压力)控制等装配成用于电子工业的砷烷、磷烷、硅烷和硼烷等多种特气的净化装置。 |
申请公布号 |
CN1751774A |
申请公布日期 |
2006.03.29 |
申请号 |
CN200510093103.8 |
申请日期 |
2005.08.19 |
申请人 |
北京微纳捷通经贸有限公司 |
发明人 |
赵贤和 |
分类号 |
B01D53/04(2006.01) |
主分类号 |
B01D53/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1、一种在镓-铟合金中加入某种特殊活性物质,能深度脱除氧、水和二氧化碳等电子材料中有害杂质,一般可以达到0.01PPM以下(由于分析方法灵敏度的限制,小于0.01PPM杂质测试方法还不都具备)方法。其特征是利用净化剂中“活性”物质对氧、水和二氧化碳的强烈吸附的特性。 |
地址 |
519000北京市宣武区牛街西里2区八号楼1115室 |