发明名称 |
大口径非球面光学元件中高频差检测方法 |
摘要 |
一种大口径非球面光学元件中高频差检测方法,涉及一种对光学元件面形误差,尤其是表面面形中高频差的检测方法的改进。利用信息处理技术对激光数字干涉仪获取的数据进行处理,采取利用二维功率谱密度求解环围能量评价元件质量,以实现检测目的。本发明提出的方法,全面考虑了被检光学元件面形信息,从而可以更加客观的评价光学元件的面形质量。本发明采用二维功率谱密度对光学元件面形质量进行评价,提供了一条检测面形质量的新途径,对高质量光学元件的质量评价具有重要的应用价值。 |
申请公布号 |
CN1752730A |
申请公布日期 |
2006.03.29 |
申请号 |
CN200510086657.5 |
申请日期 |
2005.10.20 |
申请人 |
中国科学院光电技术研究所 |
发明人 |
陈伟;伍凡;姚汉民;吴时彬;陈强 |
分类号 |
G01M11/02(2006.01);G01M11/00(2006.01) |
主分类号 |
G01M11/02(2006.01) |
代理机构 |
北京科迪生专利代理有限责任公司 |
代理人 |
刘秀娟;成金玉 |
主权项 |
1、一种大口径非球面光学元件中高频差检测方法,其特征在于:主要通过以下步骤完成:①采用光学元件波前检测装置获得被检光学元件的波前相位数据;②对波前相位数据进行数据的预处理;③对预处理后的数据作波前功率谱密度计算,获取被检元件的二维功率谱密度函数;④由二维功率谱密度函数进一步计算所测元件的点衍射函数;⑤由点衍射函数计算被检元件的环围能量,从而确定在一定的频谱范围内环围能量是否满足要求,以确定被检元件是否符合要求。 |
地址 |
610209四川省成都市双流350信箱 |