| 发明名称 | 使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法 | ||
| 摘要 | 一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，它是在溅镀室中，利用离子溅镀法，在资讯显示器的显示面板外壁上，先溅镀形成铟锡氧化物透明膜，再利用离子溅镀法，于铟锡氧化物透明膜的外表面溅镀形成二氧化硅膜。通过简单且无污染的离子溅镀方式，利用铟锡氧化物膜的低电阻特性及二氧化硅膜的低反射率特性，在资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成具备低电阻及低反射率涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN1247319C | 申请公布日期 | 2006.03.29 |
| 申请号 | CN01116109.4 | 申请日期 | 2001.05.09 |
| 申请人 | 中华映管股份有限公司 | 发明人 | 胡俊民;滕月明 |
| 分类号 | B05D5/00(2006.01);B05D5/12(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C14/46(2006.01);H01J31/10(2006.01) | 主分类号 | B05D5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人 | 胡光星 |
| 主权项 | 1、一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于：它是在溅镀室中，利用离子溅镀法，在资讯显示器的显示面板外壁上，先溅镀形成铟锡氧化物透明膜，再利用离子溅镀法，于该铟锡氧化物透明膜的外表面溅镀形成二氧化硅膜，在该资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成具备低电阻及低反射率涂层。 | ||
| 地址 | 台湾省台北市 | ||