| 发明名称 | 电摄影光敏元件的生产方法 | ||
| 摘要 | 一种电摄影光敏元件的生产方法，包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d)：a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片；b)用含有5％体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片，以累计百分率计，50％的球形磨料直径是5μm至60μm；c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片，用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化；和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。 | ||
| 申请公布号 | CN1248060C | 申请公布日期 | 2006.03.29 |
| 申请号 | CN99127720.1 | 申请日期 | 1999.11.26 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 木村知裕;川守田阳一;铃木幸一;长坂秀昭;田中成人;兵主善彦 |
| 分类号 | G03G5/10(2006.01);C23C22/36(2006.01) | 主分类号 | G03G5/10(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘金辉 |
| 主权项 | 1.一种电摄影光敏元件的生产方法，包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d)；a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片；b)用含有5％体积-25％体积的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片，以累计百分率计，50％的球形磨料直径从5μm至60μm；c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片，用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化，所述酸性水溶液的pH值为1.0-5.5；和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||