采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统

摘要

用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统，其特征是采用梯形棱镜与可编程选通快门结合，为掩模提供不同方位的照明(垂直于掩模的照明，使低空间频率成份曝光；沿+X方向的偏置照明与沿－X方向的偏置照明，使沿X方向分布的较高空间频率成分曝光；沿+Y方向的偏置照明与沿－Y方向的偏置照明，使沿Y方向分布的较高空间频率成份曝光)，实现五次曝光成像干涉光刻曝光。本发明无任何移动部件、曝光之间不需光路调整和图像对准，用可编程选通快门控制五次曝光的曝光时间(曝光剂量)和间隔时间，系统方便灵活、可优化曝光剂量，提高分辨率和图像质量。

主权项

1、采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法，其特征在于包括下列步骤：(1)在准直透镜和掩模之间放置选通快门和位于其后的梯形棱镜，其中选通快门由5个电动快门组成；(2)采用选通快门中的一个快门及其相对应的梯形棱镜顶面，垂直照明掩模，实现低空间频率分量曝光；(3)采用选通快门中关于顶面对称的两个快门及其对应的梯形棱镜的两个侧面，分别沿+X和-X方向偏置照明掩模，实现X方向较高空间频率分量的曝光；(4)采用选通快门中的另一对关于顶面对称的快门及其对应的梯形棱镜的另两个侧面，分别沿+Y和-Y方向偏置照明掩模，实现Y方向较高空间频率分量的曝光，从而完成成像干涉光刻的五次曝光。