| 发明名称 | 金属线宽及金属间距渐变的平面螺旋电感 | ||
| 摘要 | 本实用新型属集成电路器件制造技术领域，具体为一种金属线宽及金属间距渐变的平面螺旋电感。在不改变版图面积和内径大小的前提下，该电感的金属导体线宽w<SUB>n</SUB>从内到外依次增大，金属线间距s<SUB>n</SUB>从内到外随着w<SUB>n</SUB>的增大而增大。该电感的金属导体损耗小，品质因子Q值高，能与常规CMOS工艺相兼容，且能改善CMOS射频前端的重要功能单元的性能。 | ||
| 申请公布号 | CN2768205Y | 申请公布日期 | 2006.03.29 |
| 申请号 | CN200420114664.2 | 申请日期 | 2004.12.23 |
| 申请人 | 华东师范大学;上海华虹(集团)有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 | 发明人 | 石艳玲;王勇;刘贇;陈寿面 |
| 分类号 | H01L27/00(2006.01);H01L29/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01F17/00(2006.01);H01F37/00(2006.01) | 主分类号 | H01L27/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人 | 滕怀流;陆飞 |
| 主权项 | 1、一种集成电路中的平面螺旋电感，其特征是，该电感的金属线宽wn是渐变的，从内到外依次增大；金属间间距sn也是渐变的，从内到外随wn的增大而增大。 | ||
| 地址 | 200062上海市中山北路3663号 | ||