发明名称 | 湿处理装置 | ||
摘要 | 本发明的目的是提供一个不使用超声波,还容易吸入高粘度流体,并具有对残渣剩余进行清除的清洗喷嘴的湿处理装置。本发明中,具备接近被清洗物(8)的表面进行配设且具有着为把从外部供给的清洗用流体(9)以带状向被清洗物(8)表面进行吐出的具有细缝状的吐出口(10)的供给口(2)和具有对从吐出口(10)吐出的清洗用流体(9)进行排出的排出口(3)的清洗组件(11),并且吐出口(10)的剖面积,相对于从外部供给的清洗用流体(9)的供给口承接口部的开口剖面积,其为了把清洗用流体(9)向被清洗物(8)表面吐出的前端部具有超过1的正数分之一倍的开口剖面积,把由此构成的清洗组件配置在与被清洗物(8)的移动方向垂直的方向上。 | ||
申请公布号 | CN1751813A | 申请公布日期 | 2006.03.29 |
申请号 | CN200510107502.5 | 申请日期 | 2005.09.23 |
申请人 | 株式会社未来视野 | 发明人 | 富山宪世 |
分类号 | B08B3/04(2006.01) | 主分类号 | B08B3/04(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 何腾云 |
主权项 | 1.一种湿处理装置,其中,具备接近被清洗物的表面进行配设且具有着为把从外部供给的清洗用流体以带状向上述被清洗物的表面进行吐出的细缝状的吐出口的供给口和具有对从上述吐出口吐出的上述清洗用流体进行排出的排出口的清洗组件,其特征在于,上述吐出口,相对于从外部供给的上述清洗用流体的供给口的开口剖面积,具有超过1的正数分之一倍的开口剖面积,把由此构成的该清洗组件配置在与上述被清洗物的移动方向垂直的方向上。 | ||
地址 | 日本东京都 |