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发明名称
Apparatus and method for deposition low-dielectric-layer on semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100564546(B1)
申请公布日期
2006.03.28
申请号
KR19990012036
申请日期
1999.04.07
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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