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发明名称 Silicon-containing polymer, negative type resist composition comprising the same, and patterning method for semiconductor device using the same
摘要
申请公布号 KR100564643(B1) 申请公布日期 2006.03.28
申请号 KR20050055105 申请日期 2005.06.24
申请人 发明人
分类号 G03F7/075;G03F7/039 主分类号 G03F7/075
代理机构 代理人
主权项
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