发明名称 Device and method for electrochemical plating of Cu
摘要
申请公布号 KR100564799(B1) 申请公布日期 2006.03.27
申请号 KR20030101204 申请日期 2003.12.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/288 主分类号 H01L21/288
代理机构 代理人
主权项
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