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发明名称 METHOD FOR FORMING ISOLATION LAYER IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100567070(B1) 申请公布日期 2006.03.27
申请号 KR20040108688 申请日期 2004.12.20
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 JUNG, JONG GOO;PARK, HYUNG SOON;PARK, JUM YONG
分类号 H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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