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发明名称 Substrate processing apparatus and substrate cleaning method
摘要
申请公布号 KR100563870(B1) 申请公布日期 2006.03.23
申请号 KR20030038687 申请日期 2003.06.16
申请人 发明人
分类号 G02F1/13;B05B7/04;B08B3/02;B08B3/10;G02F1/1333;H01L21/304 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
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