| 发明名称 | 具有甲硅烷基化剂均匀层的硅石 | ||
| 摘要 | 一种用以制备甲硅烷基化硅石的方法，其包括：用由A个通式(I)的单元;(R<SUP>1</SUP><SUB>3</SUB>SiO<SUB>1/2</SUB>) (I);与B个通式(IIa-c)的单元;(R<SUP>1</SUP><SUB>2</SUB>SiO<SUB>2/2</SUB>)，和/或 (IIa);(R<SUP>1</SUP>SiO<SUB>3/2</SUB>)，和/或 (IIb);(SiO<SUB>4/2</SUB>) (IIc);所组成的有机硅氧烷使硅石甲硅烷基化，该有机硅氧烷的硅原子上可能具有1或2个连接基团-X，且X＝OZ，Z是具有1至4个碳原子的单价烷基、或Z是氢、或X是卤素、或X是乙酰氧基，R<SUP>1</SUP>是饱和或单或多不饱和的、单价的、未卤化或卤化的具有1至18个碳原子的烃基，且可相同或不同，该有机硅氧烷可能含有C个≡SiX或＝SiX<SUB>2</SUB>基团，且A、B及C的意义是：1≤B≤100或750＜B＜10000，B≥A+C，且，若A+C＝0，则10≤B≤100或750＜B＜10000。 | ||
| 申请公布号 | CN1246222C | 申请公布日期 | 2006.03.22 |
| 申请号 | CN02144292.4 | 申请日期 | 2002.10.10 |
| 申请人 | 瓦克化学有限公司 | 发明人 | 赫伯特·巴特尔;马里奥·海涅曼;奥古斯特·阿尔腾布赫纳 |
| 分类号 | C01B33/12(2006.01);C07F7/18(2006.01);C09C3/12(2006.01) | 主分类号 | C01B33/12(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1.一种用以制备甲硅烷基化硅石的方法，其包括：用由A个通式(I)的单元(R13SiO1/2) (I)与B个通式(IIa-c)的单元(R12SiO2/2)，和/或 (IIa)(R1SiO3/2)，和/或 (IIb)(SiO4/2) (IIc)所组成的有机硅氧烷使硅石甲硅烷基化，该有机硅氧烷的硅原子上具有1或2个连接基团-X，且X＝OZ，Z是具有1至4个碳原子的单价烷基或Z是氢；或X是卤素；或X是乙酰氧基，R1是饱和或单不饱和或多不饱和的、单价的、未卤化或卤化的具有1至18个碳原子的烃基，且可相同或不同，该有机硅氧烷含有C个≡SiX或＝SiX2基团，且A、B及C的意义是：1≤B≤100或750＜B＜10000，B≥A+C，且，若A+C＝0，则10≤B≤100或750＜B＜10000。 | ||
| 地址 | 联邦德国慕尼黑 | ||