发明名称 ELECTRON DENSITY MEASUREMENT AND PLASMA PROCESS CONTROL SYSTEM USING CHANGES IN THE RESONANT FREQUENCY OF AN OPEN RESONATOR CONTAINING THE PLASMA
摘要
申请公布号 EP1212611(A4) 申请公布日期 2006.03.22
申请号 EP20000975171 申请日期 2000.07.20
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 VERDEYEN, JOSEPH, T.;JOHNSON, WAYNE, L.;SIRKIS, MURRAY, D.
分类号 G01N27/62;H01J37/32;H05H1/00;H05H1/46 主分类号 G01N27/62
代理机构 代理人
主权项
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