发明名称 |
半导体器件 |
摘要 |
在源极电极70和漏极电极80上的钝化膜90中设置离子穿越区100、102,作为第一开口。用密封树脂涂敷钝化膜90,以封装半导体器件。此时,用密封树脂填充离子穿越区100、102,以使密封树脂与源极电极70和漏极电极80直接接触。采用该结构,在高温和高湿的环境下聚集在密封树脂与钝化膜90的界面处的可移动离子经由离子穿越区100、102,放电到源极电极70和漏极电极80,由此不影响N<SUP>-</SUP>型扩展漏极区30。因此,可以改善漏极击穿电压。 |
申请公布号 |
CN1750270A |
申请公布日期 |
2006.03.22 |
申请号 |
CN200510099298.7 |
申请日期 |
2005.09.14 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
金子佐一郎;泽田和幸;宇野利彦 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L29/40(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
王英 |
主权项 |
1、一种半导体器件,其中用密封树脂覆盖其上形成有高击穿电压晶体管的半导体衬底,所述半导体器件包括:源极区和漏极区,形成在所述半导体衬底的主表面部分中;栅极绝缘膜,形成在所述漏极区上,并且使其一端延伸至与所述源极区交迭;栅极电极,形成在所述栅极绝缘膜上;源极电极,连接到所述源极区;漏极电极,连接到所述漏极区;层间膜,用于覆盖所述栅极电极,并使所述栅极电极、源极电极和漏极电极彼此电绝缘;钝化膜,用于覆盖半导体衬底主体的整个表面;第一开口,形成在所述钝化膜中;以及密封树脂,形成在所述钝化膜上;其中:所述第一开口形成在所述源极电极和所述漏极电极中至少之一上;以及所述密封树脂填充所述第一开口,并且与所述源极电极和所述漏极电极中至少之一直接接触。 |
地址 |
日本大阪府 |