发明名称 配向膜形成用转写板
摘要 一种藉由被覆已印刷的配向剂于一基板上的配向膜形成用转写板,此转写板包括一基片以及一APR层,其中一多数的网点乃规则地排列于APR层上,且配置在转写板的主动区之外侧的外部网点乃较配置于转写板之主动区内的内部网点稠密,此转写板可使得沿着转写板之主动区外侧末端所形成的配向板厚度均匀,因此,一均匀影像特性可利用均匀的摩擦而获得,甚者,因为配向剂结块的现象不会发生,由于密封线条上涂布不均所导致晶胞间隙不均匀的问题也就可以获得解决。
申请公布号 TWI251689 申请公布日期 2006.03.21
申请号 TW092122462 申请日期 2003.08.15
申请人 京东方显示器科技公司 发明人 金香律;宋省勋
分类号 G02F1/133 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 郑再钦 台北市中山区民生东路3段21号10楼
主权项 1.一种藉由被覆已印刷的配向剂于一基板上的配 向膜形成用转写板,包括一基片以及一APR层,其中 一多数的网点乃规则地排列于APR层上,且配置在转 写板的主动区之外侧的外部网点乃较配置于转写 板之主动区内的内部网点稠密。 2.如申请专利范围第1项之配向膜形成用转写板,其 中每一英寸的线条上的内部网点数目为400个左右, 而外侧网点数目为560个左右者。 3.如申请专利范围第1项之配向膜形成用转写板,其 中内部网点之直径为42m,网点之间的距离为62m ,而外部网点之直径为42m,网点之间的距离为45 m者。 4.如申请专利范围第1项之配向膜形成用转写板,其 中所述内部网点与外部网点之网点线的角度为75 度。 5.如申请专利范围第1项之配向膜形成用转写板,其 中所述外部网点区域系从主动区的边界延伸至转 写板的末端者。 图式简单说明: 第1图系传统用以被覆配向膜之装置的主体图。 第2图系依照先前技术之用以形成配向膜之转写板 之平面图与正面图。 第3图系依照先前技术之用以形成配向膜之转写板 的配向膜之截面图。 第4图系依照本发明之用以形成配向膜之转写板之 平面图与正面图。 第5图系依照本发明之用以形成配向膜之转写板的 配向膜之截面图。
地址 韩国