发明名称 连续处理装置及连续处理方法
摘要 本发明的课题是针对于提供一种对于被处理体的处理对象面连续地有效率地可施以复数种类的处理,可变更或追加组合该复数种类的处理,顺利地进行连续处理装置及连续处理方法。本发明的解决手段是连续处理装置,属于对于被处理体14的处理对象面17连续地施以复数种类的处理所用的连续处理装置10 ,其特征为具备:保持被处理体14而沿着搬运方向T搬运被处理体14所用的被处理体搬运部20,及沿着被处理体14的搬运方向T并排地排列,且对于被处理体14的上述处理对象面以大气压或大气压附近的压力下依次施以各不相同的处理所用的复数种类的处理单元51、52、53、54、55、56、57;复数种类的处理单元的种类,是自由地变更及追加组合。
申请公布号 TWI251685 申请公布日期 2006.03.21
申请号 TW093105583 申请日期 2004.03.03
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 足助慎太郎;森义明
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种连续处理装置,属于对于被处理体的处理对 象面连续地施以复数种类的处理所用的连续处理 装置,其特征为具备: 保持上述被处理体而沿着搬运方向搬运上述被处 理体所用的被处理体搬运部,及 沿着上述被处理体的上述搬运方向并排地排列,且 对于上述被处理体的上述处理对象面以大气压或 大气压附近的压力下依次施以各不相同的处理所 用的复数种类的处理单元; 上述复数种类的处理单元的种类,是自由地变更及 追加组合。 2.如申请专利范围第1项所述的连续处理装置,其中 ,上述被处理体搬运部是具备:装卸自如地吸附与 上述被处理体的上述处理对象面相反侧的保持对 象面并予以保持的吸附部,及将上述吸附部朝上述 搬运方向引导的引导构件,及将上述吸附部沿着上 述引导构件移动的驱动部。 3.如申请专利范围第1项或第2项所述的连续处理装 置,其中,上述被处理体搬运部是以朝下方状态搬 运上述被处理体的上述处理对象面;上述复数种类 的处理单元是对于上述被处理体的上述处理对象 面朝上方进行处理动作。 4.如申请专利范围第3项所述的连续处理装置,其中 ,上述复数种类的处理单元是包括洗净处理单元, 乾燥处理单元,表面改质处理单元,液剂涂布处理 单元,退火处理单元。 5.如申请专利范围第1项所述的连续处理装置,其中 ,上述被处理体是显示装置的基板。 6.一种连续处理方法,属于对于被处理体的处理对 象面连续地施以复数种类的处理所用的连续处理 方法,其特征为: 保持上述被处理体而沿着搬运方向一面搬运上述 被处理体,一面使用沿着上述被处理体的上述搬运 方向并排地排列复数种类的处理单元,对于上述被 处理体的上述处理对象面以大气压或大气压附近 的压力下依次施以各不相同的处理之际,按照上述 被处理的种类自由地变更及追加上述复数种类的 处理单元的种类的组合。 7.如申请专利范围第6项所述的连续处理方法,其中 ,上述被处理体搬运部是以朝下方状态搬运上述被 处理体的上述处理对象面;上述复数种类的处理单 元是对于上述被处理体的上述处理对象面朝上方 进行处理动作。 8.如申请专利范围第7项所述的连续处理方法,其中 ,上述复数种类的处理单元是包括洗净处理单元, 乾燥处理单元,表面改质处理单元,液剂涂布处理 单元,退火处理单元。 图式简单说明: 第1图是表示本发明的连续处理装置的第一实施形 态的图式。 第2图是表示第1图的洗净处理单元的例子的图式 。 第3图是表示第1图的乾燥处理单元的例子的图式 。 第4图是表示第1图的亲液处理单元的例子的图式 。 第5图是表示第1图的疏液处理单元的例子的图式 。 第6图是表示第1图的液剂涂布处理单元的例子的 图式。 第7图是表示本发明的连续处理方法的例子的图式 。 第8图是表示本发明的被处理体的复数种类处理的 例子的图式。 第9图是表示作为包含被处理体的一例的液晶显示 装置的一部分的图式。 第10图是表示本发明的连续处理装置的第二实施 形态的图式。
地址 日本