| 主权项 |
1.一种光干涉式显示面板,至少包含: 一第一基板; 一非透光保护结构,利用一黏着材料与该第一基板 黏合;以及 一光千涉式反射结构,位于该第一基板以及该保护 结构之间; 其中该非透光保护结构系用以防止光线穿透该光 干涉式反射结构而产生亮点缺陷。 2.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板, 其中该光干涉式反射结构至少包含: 一第一电极; 一第二电极,与该第一电极约成平行排列;以及 一支撑物,位于该第一电极以及该第二电极之间形 成一腔室。 3.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板, 其中该非透光保护结构为一平板结构或一ㄇ字型 结构。 4.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板, 其中该非透光保护结构之材质为一非透光材料或 一吸光材料。 5.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板, 其中该非透光保护结构至少包含: 一第二基板;以及 一非透光薄膜层,位于该第二基板之上。 6.如申请专利范围第5项所述之光干涉式显示面板, 其中该非透光薄膜层系位于该第二基板与该光干 涉式反射结构之间。 7.如申请专利范围第5项所述之光干涉式显示面板, 其中该非透光薄膜层为一金属薄膜或一吸光薄膜 。 8.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板, 其中该第一基板与该保护结构系密封黏合,以防止 该光干涉反射结构受到外界环境之破坏。 9.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板, 其中该黏着材料之材质包含一间隙物,利用该间隙 物使该保护结构与该第一基板之间保持一预定距 离,以避免该保护结构接触伤害该光干涉反射结构 。 10.如申请专利范围第1项所述之光干涉式显示面板 ,其中该黏着材料之材质包含一紫外线胶或一热固 胶。 11.一种光干涉式显示面板之制造方法,至少包含以 下步骤: 提供一第一基板; 形成一光干涉式反射结构于该第一基板之上;以及 利用一非透光保护结构与该第一基板黏合,使该光 干涉反射结构位于该非透光保护结构以及该第一 基板之间; 其中该非透光保护结构系用以防止光线穿透该光 干涉式反射结构而产生亮点缺陷。 12.如申请专利范围第11项所述之制造方法,其中该 形成该光干涉式反射结构之步骤至少包含: 形成一第一电极于该第一基板之上; 形成一牺牲层于该第一电极之上; 形成复数个第一开口于该牺牲层以及该第一电极 之内; 形成一支撑物于每一该些第一开口之中; 形成一第二电极于该牺牲层及该些支撑物之上;以 及 以一结构释放蚀刻制程蚀刻移除该牺牲层。 13.如申请专利范围第11项所述之制造方法,其中该 非透光保护结构为一平板结构或一ㄇ字型结构。 14.如申请专利范围第11项所述之制造方法,其中该 非透光保护结构之材质为一非透光材料或一吸光 材料。 15.如申请专利范围第11项所述之制造方法,其中该 非透光保护结构至少包含: 一第二基板;以及 一非透光薄膜层,位于该第二基板之上。 16.如申请专利范围第15项所述之制造方法,其中该 非透光薄膜层系位于该第二基板与该光干涉式反 射结构之间。 17.如申请专利范围第15项所述之制造方法,其中该 非透光薄膜层为一金属薄膜或一吸光薄膜。 18.如申请专利范围第11项所述之制造方法,其中该 第一基板与该保护结构系密封黏合,以防止该光干 涉反射结构受到外界环境之破坏。 19.如申请专利范围第11项所述之制造方法,其中该 黏合之步骤包含利用一黏着材料黏合该保护结构 以及该第一基板。 20.如申请专利范围第19项所述之制造方法,其中该 黏着材料之材质包含一间隙物,利用该间隙物使该 保护结构与该第一基板之间保持一预定距离,以避 免该保护结构接触伤害该光干涉反射结构。 21.如申请专利范围第19项所述之制造方法,其中该 黏着材料之材质包含一紫外线胶或一热固胶。 22.一种光干涉式显示面板之制造方法,至少包含以 下步骤: 提供一第一基板; 形成一光干涉式反射结构于该第一基板之上;以及 利用一黏着材料黏合一非透光保护结构以及该第 一基板,使该光干涉反射结构位于该非透光保护结 构以及该第一基板之间; 其中该第一基板与该非透光保护结构系密封黏合, 以防止该光干涉反射结构受到外界环境之破坏,且 该非透光保护结构系用以防止光线穿透该光干涉 式反射结构而产生亮点缺陷。 23.如申请专利范围第22项所述之制造方法,其中该 形成该光干涉式反射结构之步骤至少包含: 形成一第一电极于该第一基板之上; 形成一牺牲层于该第一电极之上; 形成复数个第一开口于该牺牲层以及该第一电极 之内; 形成一支撑物于每一该些第一开口之中; 形成一第二电极于该蚁牲层及该些支撑物之上;以 及 以一结构释放蚀刻制程蚀刻移除该牺牲层。 24.如申请专利范围第22项所述之制造方法,其中该 非透光保护结构为一平板结构或一ㄇ字型结构。 25.如申请专利范围第22项所述之制造方法,其中该 非透光保护结构之材质为一非透光材料或一吸光 材料。 26.如申请专利范围第22项所述之制造方法,其中该 非透光保护结构至少包含: 一第二基板;以及 一非透光薄膜层,位于该第二基板之上。 27.如申请专利范围第26项所述之制造方法,其中该 非透光薄膜层系位于该第二基板与该光干涉式反 射结构之间。 28.如申请专利范围第26项所述之制造方法,其中该 非透光薄膜层为一金属薄膜或一吸光薄膜。 29.如申请专利范围第22项所述之制造方法,其中该 黏着材料之材质包含一间隙物,利用该间隙物使该 保护结构与该第一基板之间保持一预定距离,以避 免该保护结构接触伤害该光干涉反射结构。 30.如申请专利范围第22项所述之制造方法,其中该 黏着材料之材质包含一紫外线胶或一热固胶。 图式简单说明: 第1A图系绘示习知可变色画素单元的剖面示意图; 第1B图系绘示第1A图中之可变色画素单元100在加上 电压后的剖面示意图; 第2A图系绘示本发明之一较一佳实施例之剖面示 意图; 第2B图系绘示本发明之另一较佳实施例之剖面示 意图; 第2C图系绘示本发明之另一较佳实施例之剖面示 意图;以及 第3A图至第3B图系绘示依照本发明之一较佳实施例 之制造方法。 |
