发明名称 光电化学检测方法及其装置
摘要 本发明系关于一种光电化学检测方法及其装置,其方法主要为在电化学检测器中进一步结合光电化学材质之电极,利用照光的方式增强电流,以提高检测之准确度,增加检测器的灵敏度;而其所使用之装置包括有一基座、一枢设于基座上之盖体与一装设于基座与盖体之间的卡扣装置,基座顶面形成有一容置半导性质电极试片的容置槽;盖体上有一对应电极试片之环槽、一容置于环槽内之垫圈、一其内设有一透明玻片之光照孔与复数个连通外界与环槽之流孔,当盖体紧密结合于基座上时,垫圈会在盖体与基座之间形成一检测空间,接着由流孔注入待检溶液于检测空间,同时导通电流并透过光照孔照射适当光量,以激发半导体电极上光电物质之转换,藉由转换时产生之光电流以达到提高侦测分析灵敏度,此外,本装置并具有简易开启盖体以重新替换新电极试片的特点,系为一种操作简易便利之光电化学检测装置者。
申请公布号 TWI251672 申请公布日期 2006.03.21
申请号 TW093103237 申请日期 2004.02.11
申请人 禅谱科技股份有限公司;曾志明 发明人 曾志明;锺协训;徐振腾;杨雪慧;邱梅欣;苏俊玮
分类号 G01N27/26 主分类号 G01N27/26
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种光电化学检测方法,其主要为在一电化学检 测器中结合光电化学材质之电极,利用照光的方式 产生光电流以增强一检测液体中的检测电流,以提 高检测之准确度及灵敏度。 2.如申请专利范围第1项所述之光电化学检测方法, 其中电极材料为铜合金,其系选自下列群组包含有 :铜铂合金、铜钯合金、铜汞合金、铜银合金与铜 金合金。 3.如申请专利范围第1项所述之光电化学检测方法, 其中电极材料为铜的衍生物,其系选自下列群组包 含有:氯化铜、溴化铜、碘化铜、氧化铜、氟化铜 、化铜和氧化二铜。 4.如申请专利范围第2项所述之光电化学检测方法, 其中电极材料为一价铜氧化物。 5.如申请专利范围第2项所述之光电化学检测方法, 其中电极材料为二价铜氧化物。 6.一种光电化学检测装置,其结构包括有: 一基座,其具有一顶面、一前端与一后端,基座顶 面形成有一延伸至前端之容置槽; 一枢设于基座后端之盖体,该盖体具有一顶面、一 底面、一前端、一后端与两侧边,盖体底面形成有 一具有内开口,并对应容置槽之弹性分隔体,一光 照孔与复数个流孔形成于盖体上并连通至分隔体 之内开口范围内; 一放置于容置槽中的检测电极,该检测电极对应光 照孔的位置上形成有具光电转换性质之半导体材 料;与 一设置于基座与盖体之间之卡扣装置。 7.如申请专利范围第6项之光电化学检测装置,其中 卡扣装置包含有: 两个形成于基座顶面、且各设有一定位珠之定位 柱;与 两形成于盖体前端上、且分别对应两定位珠之珠 槽。 8.如申请专利范围第7项之光电化学检测装置,其中 盖体前端两侧各形成一肩槽,两定位柱系分别对应 于盖体的两肩槽,并且两珠槽系分别设于两肩槽内 。 9.如申请专利范围第7或8项之光电化学检测装置, 其中定位柱进一步包含有: 一形成于定位柱内部之螺孔; 一栓设于螺孔内之调节螺杆,调节螺杆轴向形成一 轴孔;与 一容置于轴孔中顶持于所相对定位珠之弹性体, 藉由弹性体的弹力作用可将定位珠压迫推向珠槽, 以提供卡掣的效果。 10.如申请专利范围第9项之光电化学检测装置,其 中该弹性体为一弹簧。 11.如申请专利范围第6项之光电化学检测装置,其 中盖体底面形成有一环槽,环槽内容置有一具作为 分隔体之弹性垫圈,复数个流孔形成于盖体上并分 别连通至腶圈所圈住之范围内。 12.如申请专利范围第6项之光电化学检测装置,其 中光照孔系形成于盖体顶面,盖体之复数个流孔包 含有: 一形成与盖体一侧边之第一流出孔; 一形成与盖体同一侧边之第二流出孔;与 一形成与盖体另一侧边之注入孔。 13.如申请专利范围第6项之光电化学检测装置,其 中光照孔系形成于盖体顶面,盖体之复数个流孔包 含有: 一形成与盖体一侧边之第一流出孔; 一形成与盖体同一侧边之第二流出孔;与 一形成与盖体另一侧边之注入孔。 14.如申请专利范围第11项之光电化学检测装置,其 中光照孔系形成于盖体顶面,盖体之复数个流孔包 含有: 一形成与盖体一侧边之第一流出孔; 一形成与盖体同一侧边之第二流出孔;与 一形成与盖体另一侧边之注入孔。 15.如申请专利范围第13项之光电化学检测装置,其 进一步包含有一参考电极连结于第一流出孔。 16.如申请专利范围第14项之光电化学检测装置,其 进一步包含有一参考电极连结于第一流出孔。 17.如申请专利范围第12项之光电化学检测装置,其 进一步包含有一辅助电极连结于第二流出孔。 18.如申请专利范围第13项之光电化学检测装置,其 进一步包含有一辅助电极连结于第二流出孔。 19.如申请专利范围第14项之光电化学检测装置,其 进一步包含有一辅助电极连结于第二流出孔。 20.如申请专利范围第15项之光电化学检测装置,其 进一步包含有一辅助电极连结于第二流出孔。 21.如申请专利范围第20项之光电化学检测装置,其 中容置槽为一鸠尾槽。 22.如申请专利范围第21项之光电化学检测装置,其 中于基座侧边各设有复数道止滑刻痕。 图式简单说明: 第一图:系为本发明之立体分解图。 第二图:系为本发明呈闭阖状态之上面剖视图。 第三图:系为本发明沿第二图中3-3线之前侧剖视图 。 第四图:系为本发明沿第二图中4-4线之操作状态侧 面剖视图。 第五图:系为侦测OHPs操作实验结果之时间、光照 强度与输入电流大小对应所侦测电流强度之对照 曲线图(A)与长条图(B)。 第六图:系为侦测OHPs操作实验中照光或不照光的 情形下,时间与输入电流大小对应所侦测电流强度 之对照曲线图(A)与线性回归图(B)。
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