发明名称 加装震动装置之流体传输系统
摘要 本发明系提供一种加装震动装置之流体传输系统,其包含有一传输管线、一进料口、一进水口、至少一震动装置及复数个缓冲器。其中当该系统进行一高黏度流体之传输时,该震动装置提供适当程度之震动效果以防止该高黏度流体附着于该传输管线之内壁而阻塞传输管线,同时该等缓冲器系用以使震动能量不致衰减,并避免该传输管线之震动影响其他设置之运作。
申请公布号 TWI251651 申请公布日期 2006.03.21
申请号 TW092102067 申请日期 2003.01.29
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 巫信东
分类号 F17D1/08 主分类号 F17D1/08
代理机构 代理人 许锺迪 台北县永和市福和路389号5楼
主权项 1.一种加装震动装置之研磨液传输系统,包含有: 一传输管线,用以接收并输送一研磨液进料; 至少一进料口,设置于该传输管线上,用以注入该 研磨液进料; 至少一进水口,设置于该传输管线上,用以提供该 研磨液进料适当之流动性; 至少一震动装置,安装于该传输管线上,用以提供 该传输管线适当程度震动效果;以及 复数个缓冲器(cushion),位于该传输管线底部,用以 支撑该传输管线; 其中在该研磨液传输过程中,该震动装置系提供该 传输管线适当程度之震动效果,以使该研磨液进料 不致附着于该传输管线之内壁,同时该等缓冲器系 用以使震动能量不至衰减,并避免该传输管线之震 动影响其他设备之运作。 2.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中该 研磨液系为一化学机械研磨(CMP)制程使用之研磨 液。 3.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中于 该研磨液系为一高黏度之流体。 4.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中该 研磨液包含有二氧化矽(SiO2)。 5.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中该 震动装置系为一气动式震动器。 6.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中该 震动装置系贴附于该传输管线上。 7.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中该 传输管线系利用该等缓冲器支撑并悬吊于地面之 上。 8.如申请专利范围第1项之研磨液传输系统,其中该 传输管线上可装设一观测窗口,用以观测该研磨进 料于该传输管线内部附着情形。 9.一种加装震动装置之高黏度流体传输系统,包含 有: 一传输管线,用以接收并输送一高黏度进料; 至少一进料口,设置于该传输管线上,用以注入该 高黏度进料; 至少一进水口,设置于该传输管线上,用以提供该 高黏度进料适当之流动性; 至少一震动装置,安装于该传输管线上,用以提供 该传输管线适当程度震动效果;以及 复数个缓冲器,位于该传输管线底部,用以支撑该 传输管线; 其中在该高黏度流体传输过程中,该震动装置系提 供该传输管线适当程度之震动效果,以使该高黏度 进料不致附着于该传输管线之内壁,同时该等缓冲 器系用以使震动能量不至衰减,并避免该传输管线 之震动影响其他设备之运作。 10.如申请专利范围第9项之高黏度流体传输系统, 其中该震动装置系为一气动式震动器。 11.如申请专利范围第9项之高黏度流体传输系统, 其中该震动装置系贴附于该传输管线上。 12.如申请专利范围第9项之高黏度流体传输系统, 其中该传输管线系利用该等缓冲器支撑并悬吊于 地面之上。 13.如申请专利范围第9项之高黏度流体传输系统, 其中该传输管线上可装设一观测窗口,用以观测该 高黏度进料于该传输管线内部附着情形。 图式简单说明: 图一为习知一流体传输系统之示意图。 图二为本发明一流体传输系统之示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号