| 主权项 |
1.一种微影投影装置,包括 一辐射系统,用以提供一辐射投影光束; 一支承结构,用以支承图案形成装置,该图案形成 装置供作将投影光束根据所需图案形成图案; 一基板台,用以固定一基板; 一投影系统,用以将形成图案之光束投影于基板之 一目标部分上;及 一支承以其沿微影投影装置之第一部分与第二部 分之间之一第一支承方向提供一磁力,其特点为此 支承包括第一、第二及第三磁铁组成件及其中: 该第一及第三磁铁组成件附接于该第一部分及各 自包括至少一经定向之磁铁,以使磁极化实质上平 行或反平行于该第一方向; 该第一及第三磁铁组成件于其之间以实质上垂直 于第一方向之第二方向界定一空间; 该第二磁铁组成件附接于第二部分及至少包括一 磁铁,该第二磁铁组成件至少部分位该空间中;及 该第二磁铁组成件使其磁极化定向以便藉该第一 、第二及第三磁铁组成件间之磁交互作用而在实 质上沿该第一方向产生一偏压力。 2.如申请专利范围第1项之微影投影装置,其中该第 一、第二及第三磁铁组成件中之一组成件包括至 少一永久磁铁。 3.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该第二磁铁组成件于垂直于该第一方向之一平面 中至少实质上限定该第一磁铁组成件及该第三磁 铁组成件实质上限定该第二磁铁组成件。 4.如申请专利范围第3项之微影投影装置,其中该等 磁铁组成件系绕实质上平行于该第一方向之一共 同轴线至少在实质上成旋转对称。 5.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该第一及第三磁铁组成件中之至少一个组成件包 括二磁铁及一用以调整该磁铁之相对位置之装置 以便调整该偏压力。 6.如申请专利范围第5项之微影投影装置,其中该第 二磁铁系沿实质上平行于该第一方向之方向相间 隔以于二者间界定一可调整之间隙。 7.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该第三磁铁组成件中之一磁铁系予以定向,以使其 磁极化实质上平行于第一磁铁组成件之一磁铁之 磁极化;及第二磁铁组成件之第一磁铁系予以定向 ,以使其磁极化实质上平行或反平行第一磁铁组成 件之磁极化以便提供偏压力。 8.如申请专利范围第7项之微影投影装置,其中该第 二磁铁组成件另外包括经定向之第二磁铁,以使其 磁极化实质上平行于第二磁铁组成件之第一磁铁 之磁极化以便提供沿第一方向之进一步偏压力。 9.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该第三磁铁组成件之一磁铁系予以定向以使其磁 极化实质上反平行于第一磁铁组成件之一磁铁之 磁极化;第二磁铁组成件之第一磁铁系予以定向以 使其磁极化实质上垂直于第一磁铁组成件之磁极 化以便提供偏压力。 10.一种微影投影装置,包括: 一辐射系统,用以提供一辐射投影光束; 一支承结构,用以支承图案形成装置,此图案形成 装置用作将投影光束根据所需图案形成图案; 一基板台,用以固定基板; 一投影系统,用以将形成图案之光束投影于基板之 目标部分上;及 一支承以其沿微影投影装置之第一部分与第二部 分之间之第一支承方向提供一磁力,其特点为此支 承包括第一、第二及第三磁铁组成件及其中: 该第一及第三磁铁组成件附接于该第一部分及各 自包括至少一经定向之磁铁,以使其磁极化实质上 平行或反平行于该第一方向,该第一及第三磁铁组 成件中之至少一组成件具有绕沿第一方向之一轴 线之一实质上成旋转对称之组态; 该第一及第三磁铁组成件于彼等之间界定一空间; 该第二磁铁组成件附接于第二部分及包括至少一 磁铁,该第二磁铁组成件至少部分位于该空间中; 及 该第二磁铁组成件之该至少一磁铁使其磁极化定 向以便藉该第一、第二及第三磁铁组成件之间之 磁相互作用而产生沿该第一方向之偏压力。 11.如申请专利范围第10项之微影投影装置,其中该 第一、第二及第三磁铁组成件包括至少一永久磁 铁。 12.如申请专利范围第10或11项之微影投影装置,其 中该第一及第三磁铁组成件于彼等之间界定沿实 质上垂直于第一方向之第二方向之该空间。 13.如申请专利范围第10或11项之微影投影装置,其 中该第一及第三磁铁组成件于彼等之间沿该第一 方向界定一空间及该第一及第三磁铁组成件之磁 极化方向实质上彼此相反。 14.如申请专利范围第13项之微影投影装置,其中该 第一及第三磁铁组成件二者均绕沿第一方向之该 轴线而具有实质上为旋转对称结组态。 15.如申请专利范围第14项之微影投影装置,其中该 第一及第二磁铁组合件均有实质上为环形组态。 16.一种微影投影装置,包括: 一辐射系统,用以提供一辐射投影光束; 一支承结构,用以支承图案形成装置,此图案形成 装置用作将投影光束根据所需图案形成图案; 一基板台,用以固定一基板; 一投影系统,用以将经形成图案之光束投影于基板 之一目标部分上;及 一支承,用以提供于微影投影装置之第一部分与第 二部分之间以第一支承方向提供一磁力,其特点为 该支承包括第一及第二磁铁组成件及其中: 该第二磁铁组成件附接于第二部分及包括至少一 磁铁,此磁铁具有经定向之磁极化以便藉该第一及 第二磁组成件间之磁交互作用而产生实质上沿该 第一方向之偏压力;及 该第一磁铁组成件附接于该第一部分及包括至少 二永久磁铁,该等永久磁铁之一相对位置可予以调 整以便调整该偏压力。 17.如申请专利范围第16项之微影投影装置,其中磁 支承包括附接于该第一部分之第三磁铁组成件及 包括至少一经定向之磁铁,以使其磁极化实质上平 行或反平行于该第一方向,及该第一及第三磁铁组 成件于彼等之间界定一空间,该第二磁铁组成件至 少部分位于此空间中。 18.如申请专利范围第17项之微影投影装置,其中第 三磁铁组成件包括至少二永久磁铁,该第三磁铁组 成件之该等永久磁铁之相对位置可以调整以便调 整该偏压力。 19.如申请专利范围第16、17或18项中之微影投影装 置,其中第一、第二及第三磁铁组成件具有绕沿第 一方向之轴线之实质上成旋转对称之组态。 20.如申请专利范围第1、2、10、11、16、17及18项中 任一项之微影投影装置,其中该支承包括可连接至 一电源供应之一导电元件,该导电元件经配置以便 藉该导电元件所载之电流与该第一、第二及第三 磁铁组成件之交互作用而于该第一与第二部分之 间产生一力。 21.如申请专利范围第1、2、10、11或16项之微影投 影装置,其中该第二磁铁组成件使其磁极化实质上 经定向平行或反平行于第二方向,及其中该支承进 一步包括可连接至一电源供应之导电元件,该导电 元件附接于该第一部分以便藉该导电元件所载电 流与该第二磁铁组成件之交互作用而产生平行该 第一及第二部分间之该第一方向之一力。 22.一种微影投影装置,包括: 一辐射系统,用以提供一辐射投影光束; 一支承结构,用以支承图案形成装置,此图案形成 装置用作将投影光束根据所需图案形成图案; 一基板台,用以固定一基板; 一投影系统,用以将形成图案投影于基板之一目标 部分;及 一支承,用以提供于微影投装置之第一部分与第二 部分之间以一第一支承方向提供一磁力,其特点为 此支承包括第一及第二磁铁组成件及其中: 该第一磁铁组成件附接于第一部分及具有经定向 之磁极化以其实质上平行或反平行于该第一方向; 该第二磁铁组成件附接于第二部分及包括至少一 磁铁使其磁极化沿垂直于第一方向之第二方向定 向以便藉该第一及第二磁铁组成件之间之磁相互 作用产生实质上沿该第一方向之一偏压力;及 一可连接至一电源供应之导电元件,该导电元件附 接于该第一部分以便藉该导电元所载电源与该第 二磁铁组成件之一磁场之交互作用而产生平行于 该第一与第二部分间之该第一方向之一力。 23.如申请专利范围第22项之微影投影装置,其中第 二磁铁组成件及导电元件具有绕沿第一方向之一 轴线之实质上旋转对称组态。 24.如申请专利范围第1、2、10、11、16、22或23项之 微影投影装置,其中第一磁铁组成件包括一至少经 定向之磁铁,以使第一磁铁组成件之磁极化实质上 平行或反平行于该第一方向,其中磁支承包括附接 于该第一部分之一第三磁铁组成件及包括至少一 经定向之磁铁,以使其磁极化实质上反平行于第一 磁铁之磁极化,及其中该第一及第三磁铁组合件于 彼等之间界定一空间,第二磁铁组成件至少部分位 于此空间中。 25.如申请专利范围第1、2、10、11、16、22或23项中 任一项之微影投影装置,其中第一及第三磁铁组成 件中之至少一组成件具有绕沿第一方向之一轴线 之实质上旋转对称之组态。 26.如申请专利范围第1、2、10、11、16、22及23项中 任一项之微影投影装置,其中该第二磁铁于该第二 方向相间隔以于彼此之间界定一进一步空间及予 以定向,以便彼等之磁极化实质上成平行,及其中 该导电元件至少部分位于该进一步之空间中。 27.如申请专利范围第1、2、10、11、16、22及23项中 之任一项之微影投影装置,其中在导电元件之该第 一方向之一尺寸显着大于或显着小于第二磁铁组 成件之一磁铁之尺寸。 28.如申请专利范围第1、2、10、11、16、17、18、22 及23项中之任一项之微影投影装置,其中该第一及 第二部分中之一部分系藉该支承而由该第一及第 二部分中之另一部分支承,及其中该被支承之部分 为该支承结构,该基板台,及一隔离之参考框架中 之一。 29.如申请专利范围第1、2、10、11、16、17、18、22 及23项中之任一项之微影投影装置,其中微影投影 装置之第一部分藉该支承而支承微影投影装置之 第二部分;及导电元件附接于第一部分,及其中该 被支承之第二部分为该支承结构,该基板台,及一 隔离之参考框架中之一。 30.一种使用微影投影之制造方法,包括以下步骤: 提供一至少部分为一辐射敏感层遮盖之基板; 使用一辐射系统提供一辐射投影光束; 使用图案形成装置以使投影光束于其横截面中有 一图案; 将形成图案之辐射光束投影于辐射敏感材料层之 一目标部分上, 其特点为: 提供一支承以其沿微影投影装置之第一部分与第 二部分之间之第一支承方向提供一磁力,此微影投 影装置包括第一、第二及第三磁铁组成件,及其中 : 该第一及第三磁铁组成件附接于该第一部分及各 自包括至少一经定向之一磁铁以使其磁极化实质 上平行或反平行于该第一方向; 该第一及第三磁铁组成件系予以配置以于彼等之 间沿线实质上垂直于第一方向之第二方向界定一 空间; 该第二磁铁组成件附接于第二部分及包括至少一 磁铁,该第二磁铁组成件至少部分位于该空间中; 及 该第二磁铁组成件之该至少一磁铁系使其磁极化 定向以便藉该第一、第二及第三磁铁组成件间之 磁相互作用而产生实质上沿该支承方向之一偏压 力。 图式简单说明: 图1描绘根据本发明之一具体实例之一微影投影装 置; 图2a显示根据本发明之用于一组态之磁铁之示意 配置图; 图2b显示就图2a之组态所计算之磁场之磁力线; 图3a显示用于根据本发明之另一组态之磁铁之示 意配置图; 图3b显示就图3a之组态所计算之磁场之磁力线; 图4a显示用于根据本发明之另一组态之磁铁之示 意配置图; 图4b显示就图4a之组态所计算之磁场之磁力线; 图5a显示根据本发明之一轴向对称支承之一半之 示意配置图; 图5b显示就图6a所示之支承所计算之磁场之磁力线 ; 图6a显示以牛顿(N)表示就垂直(y轴,1mm)及水平(x轴, 1.5mm)移动之支承力之等量线描图; 图6b显示以牛顿(N)表示就垂直(y轴,1mm)及水平(x轴, 1.5mm)移动之径向力之等量线描图; 图7a及7b显示根据图5a之配置之一支承之第二模拟 之结果; 图7a显示以牛顿(N)表示就垂直(y轴,1mm)及水平(x轴, 1.5mm)移动之支承力之等量线描图; 图7b显示以牛顿(N)表示就垂直(y轴,1mm)及水平(x轴, 1.5mm)移动之径向力之等量线描图; 图8显示图5a之支承之一变体之示意配置图; 图9a显示根据本发明之另一轴向对称支承之一半 之示意配置图; 图9b显示就图7a所示之支承所计算之磁场磁力线; 图10,11及12显示根据本发明之一磁支承之具体实例 之另一示意配置。 |
