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发明名称 PHOTORESIST, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND PHOTOLITHOGRAPHIC METHOD USING THEREOF
摘要
申请公布号 KR100564535(B1) 申请公布日期 2006.03.21
申请号 KR19980008804 申请日期 1998.03.16
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KANG, YUL;CHOI, SANG JUN;MUN, JU TAE
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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