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"LITOGRAFIA INTERFEROMéTRICA óTICA SEM MáSCARA". A presente invenção refere-se a um dispositivo ótico gerado por litografia interferométrica, na forma de um padrão de relevo de superfície que difrata a luz, para ser utilizado principalmente em segurança ótica, produzido por sistemas óticos que atendem às Regras de Scheimpflug e Hinge contendo: duas lentes idênticas L1 e L2, duas localizações físicas do objeto B1 e B2 e um plano da imagem A1 <154> A2. Nenhuma máscara física é necessária através de todo o processo de criação, assim eliminando qualquer tipo de efeito de franja. O dispositivo realmente implementa um holograma focalizado no plano, com um padrão de superfície complexo de vales e cristas com uma função de geração não-trivial, o qual é, por si mesmo, tanto uma característica de segurança adicional do dispositivo quanto a sua impressão digital. O tempo para gerar o dispositivo ótico é proporcional ao número de cores especificado para a geometria de referência e não depende da área total do dispositivo ótico.
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