发明名称 含微间隙之元件及其制造方法
摘要 一种含微间隙之元件及其制造方法,其步骤系于基材表面形成第一金属层、绝缘层及第二金属层,绝缘层包含复数个微穿孔,其微穿孔系穿透绝缘层以露出第一金属层,第二金属层形成于绝缘层上并覆盖微穿孔,使第一金属层与第二金属层电性连接,再通入电流,使电流流通于第一金属层与第二金属层产生电致迁移,直到第一金属层与第二金属层之间形成微间隙,即形成含微间隙之元件。
申请公布号 TW200609179 申请公布日期 2006.03.16
申请号 TW093127543 申请日期 2004.09.10
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 林琨程;李以霠;郑景亮;黄一德
分类号 B81B3/00 主分类号 B81B3/00
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号