发明名称 | 含微间隙之元件及其制造方法 | ||
摘要 | 一种含微间隙之元件及其制造方法,其步骤系于基材表面形成第一金属层、绝缘层及第二金属层,绝缘层包含复数个微穿孔,其微穿孔系穿透绝缘层以露出第一金属层,第二金属层形成于绝缘层上并覆盖微穿孔,使第一金属层与第二金属层电性连接,再通入电流,使电流流通于第一金属层与第二金属层产生电致迁移,直到第一金属层与第二金属层之间形成微间隙,即形成含微间隙之元件。 | ||
申请公布号 | TW200609179 | 申请公布日期 | 2006.03.16 |
申请号 | TW093127543 | 申请日期 | 2004.09.10 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 林琨程;李以霠;郑景亮;黄一德 |
分类号 | B81B3/00 | 主分类号 | B81B3/00 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |