发明名称 具有气体冲洗元件之微影装置
摘要 本发明揭示一种微影装置。该装置包括一用以提供一辐射光束之照明系统,及一用于支撑一图案化元件之支撑结构。该图案化元件用于在该光束之横截面上赋予其一图案。该装置亦包括一气体冲洗元件,其用于横越该辐射光束及/或沿着一光学组件之一表面而冲洗一大体为层状之气流。该气体冲洗元件包括单一气体出口,该单一气体出口在其下游端处具有一内缘。该内缘界定一总气体出口区域。该气体出口具有一层压板,该层压板具有一有效区域,在使用过程中,该大体为层状之气流流出该有效区域。该层压板有效区域包括具有层压板开口之材料且至少与该总气体出口区域一样大。
申请公布号 TW200609687 申请公布日期 2006.03.16
申请号 TW094116915 申请日期 2005.05.24
申请人 ASML公司 发明人 罗兰德 凡 德 汉;强纳斯 安东尼斯 马里亚 马汀那 凡 乌格特;UIJTREGT, JOHANNES ANTONIUS MARIA MARTINA;马赛尔 贝克斯;罗兰德 强纳斯 哈尔特曼斯;尼可拉斯 潭 凯特;尼可拉斯 罗德夫 坎博;尼可拉斯 法兰希克斯 卡伯拉尔斯;FRANCISCUS;珍-马里斯 史材曼
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰