用以沈积薄膜之方法及具有用于喷吹扫用之气体之分离式喷射孔之薄膜沈积系统

摘要

本发明揭示了一种薄膜沉积系统及方法。该薄膜沉积系统包括一反应室、至少一安装于该反应室中用于在其上安装一基板之晶座(susceptor)、一以旋转方式定位于该晶座上方之第一气体喷射器及至少一安装于该第一气体喷射器上方用于喷洒吹扫用气体之第二气体喷射器。该薄膜沉积系统可增加源气体至该基板表面之吸收率，有效缩短气体之供给循环以改进其生产率，并改进该吹扫用气体之清洁效果以使薄膜稳定地沉积至该基板上。