发明名称 介电结构
摘要 本发明系揭示特别适合供具有介电材料层之电容器用之介电结构,其包含提供正向拓朴图(positive topography)之掺杂剂。亦揭露该种介电结构之形成方法。该种介电结构显示与后续施加之导电层之黏合性增加。
申请公布号 TW200609962 申请公布日期 2006.03.16
申请号 TW094125531 申请日期 2005.07.28
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 发明人 齐尼克 玛莉亚 安娜
分类号 H01G4/018 主分类号 H01G4/018
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国