发明名称 研磨垫清理装置、化学机械研磨装置及监控研磨垫清理装置操作的方法
摘要 本发明提供一种研磨垫清理装置,用于化学机械研磨装置,包括一横梁;一研磨垫清理头,包括一研磨碟以清理一研磨垫,该研磨垫清理头固定于该横梁的一端;一驱动单元,连接该研磨垫清理头,以驱动一向下应力于该研磨垫清理头上;以及至少一感测器,设置于该横梁上,以感测横梁的变形。
申请公布号 TW200609080 申请公布日期 2006.03.16
申请号 TW094104174 申请日期 2005.02.14
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 林靖隆;何富岛
分类号 B24B53/02;B24B37/04 主分类号 B24B53/02
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号