处理液供给装置

摘要

〔课题〕于安装有支撑滚轴之凹部底部，形成排液路径，将内部所产生之颗粒与处理液等一起排出，而适用于基板处理。〔解决手段〕处理液供给装置系由上部处理部10及下部处理部20构成，相对于搬送于两处理部间之基板，从两面供给处理液，进行湿式处理。于下部处理部之顶板22之上表面侧，形成所需个数之凹部，并于其中设置支撑滚轴30，使其上端从顶板露出，以限制搬入基板因自重而形成向下方之挠曲。于装填有支撑滚轴30之凹部底部，设置连通至外部之排液孔，将伴随支撑滚轴30之转动所产生之颗粒排至外部。