含乙烯醚化合物之形成防反射膜用组成物

摘要

〔课题〕提供于制造半导体装置的光微影过程中使用，且用以形成可经光阻用之硷性显像液显像之防反射膜之形成防反射膜用组成物，及使用此形成防反射膜用组成物之光阻图案的形成方法。〔解决手段〕含有具有至少二个乙烯醚基的化合物，具有至少二个酚性羟基或羧基的硷可溶性化合物、光产酸剂、及溶剂的形成防反射膜用组成物。