正型光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明提供一种正型光阻组成物，其系含有：含有具有2以上之酚性羟基、分子量为300～2500之多价苯酚化合物(x)中，该酚性羟基之一部份被酸离解性溶解抑制基保护的保护体(X1)所成之图型形成材料用基材(A)，与藉由曝光产生酸之酸产生剂成份(B)的正型光阻组成物；其特征为该(B)成份含有，以烷基磺酸离子做为阴离子之盐系酸产生剂(B1)。