发明名称 UTILIZING AN INTEGRATED PLASMON DETECTOR TO MEASURE A METAL DEPOSIT ROUGHNESS ON A SEMICONDUCTOR SURFACE
摘要 <p>A method for monitoring the surface roughness of a metal, comprises impinging a laser beam onto the surface of a metal layer to induce the formation of a plasmon therein, and monitoring a current of decay electrons emitted by the plasmon.</p>
申请公布号 WO2006028669(A1) 申请公布日期 2006.03.16
申请号 WO2005US29174 申请日期 2005.08.16
申请人 WEI, DAVID, T.;SCHERER, AXEL 发明人 WEI, DAVID, T.;SCHERER, AXEL
分类号 H01L49/00 主分类号 H01L49/00
代理机构 代理人
主权项
地址