发明名称 Vorrichtung zur Bereitstellung eines reproduzierbaren Targetstromes für die energiestrahlinduzierte Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung
摘要 Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bereitstellung eines reproduzierbaren Targetstroms für die energiestrahlinduzierte Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung. DOLLAR A Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zur Bereitstellung eines reproduzierbar abgegebenen Targetstroms (21) für die Erzeugung eines kurzwellige Strahlung (52) emittierenden Plasmas (5) zu finden, die für beliebige Targetmaterialien unter den jeweiligen Prozessbedingungen eine hohe Richtungsstabilität des Targetstroms (21) über eine große Anzahl von einzelnen Plasmaerzeugungsprozessen gewährleistet, wird erfindungsgemäß gelöst, indem in der Wechselwirkungskammer (1) eine Düsenschutzeinrichtung (4) zwischen der Targetdüse (2) und dem Wechselwirkungsort (23) zur Erzeugung des Plasmas (5) vorhanden ist und die Düsenschutzeinrichtung (4) eine Gasdruckkammer (41) aufweist, wobei die Gasdruckkammer (41) entlang der Targetbahn (22) eine Apertur (42) zum ungehinderten Durchlassen des Targetstroms (21) aufweist und mit einem Puffergas (6) gefüllt ist, das unter einem Druck von einigen 10 mbar gehalten wird.
申请公布号 DE102004042501(A1) 申请公布日期 2006.03.16
申请号 DE20041042501 申请日期 2004.08.31
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 GAEBEL, KAI;KLOEPFEL, DIETHARD;HERGENHAN, GUIDO
分类号 H05H1/24;G21K1/00;H05G2/00 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人
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