发明名称 二维位移量的量测装置
摘要 本发明是有关于一种二维位移量的量测装置,其是包括激光光源、平行化透镜、分光镜组、复数错位共轭光学镜组以及复数干涉光学解相模组,激光光源是提供一激光光源入射平行化透镜,以产生平行化的激光光源,继而入射分光镜组,以分成两道入射光,以供入射二维绕射单元,以产生复数道第一次绕射光以及第一二阶绕射光,该等错位共轭光学镜组用以反射第一次绕射光,以供该等第一次绕射光返回二维绕射单元,以产生复数第二次绕射光,并使得第二次绕射光与第一二阶绕射光错位,该等干涉光学解相模组则将第二次绕射光产生的弦波信号光解相,以供利用该等信号光求出二维移动量。
申请公布号 CN1245605C 申请公布日期 2006.03.15
申请号 CN03160230.4 申请日期 2003.09.28
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 高清芬;张中柱;林庆芳
分类号 G01B11/02(2006.01);G01B9/02(2006.01) 主分类号 G01B11/02(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1.一种二维位移量的量测装置,是用以量测一二维移动量,其特征在于,该量测装置包括:一个二维绕射单元;一激光光源,是用以提供一入射光源;一分光镜组,是用以将该入射光源分光,以产生至少二道入射光,以供该至少二道入射光入射该二维绕射单元,以产生复数道第一次绕射光以及复数道第一次二阶绕射光;复数错位共轭光学镜组,是分别反射该等第一次绕射光,使得该等第一次绕射光返回该二维绕射单元,以产生复数道第二次绕射光,且该等第二次绕射光是与该等第一次二阶绕射光错位;以及复数干涉光学解相模组,是分别接收该等第二次绕射光,以供将每一道第二次绕射光分光为至少二道信号光,以利用该等信号光求出该二维移动量。
地址 台湾省新竹县竹东镇