发明名称 |
混合研磨剂抛光组合物及其使用方法 |
摘要 |
本发明提供一种抛光组合物,其包含(i)一种研磨剂,其包含(a)5至45重量%莫氏硬度为8或更大的第一研磨剂粒子,(b)1至45重量%具有含有较小初级粒子聚集体的三维结构的第二研磨剂粒子,及(c)10至90重量%包含硅石的第三研磨剂粒子,和(ii)液体载体。本发明还提供一种抛光基板的方法,该方法包含(i)提供上述抛光组合物,(ii)提供具有表面的基板,并(iii)以该抛光组合物研磨至少一部分基板表面以抛光该基板等步骤。 |
申请公布号 |
CN1748009A |
申请公布日期 |
2006.03.15 |
申请号 |
CN200480003457.2 |
申请日期 |
2004.02.04 |
申请人 |
卡伯特微电子公司 |
发明人 |
阿特纳福·N·查尼耶利夫;孙韬 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01);H01L21/321(2006.01);H01L21/768(2006.01) |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
宋莉;贾静环 |
主权项 |
1.一种抛光组合物,其包含:(i)一种研磨剂,其包含(a)5至45重量%莫氏硬度为8或更大的第一研磨剂粒子,(b)1至45重量%具有含有较小初级粒子聚集体的三维结构的第二研磨剂粒子,及(c)10至90重量%包含硅石的第三研磨剂粒子,和(ii)液体载体。 |
地址 |
美国伊利诺伊州 |