| 发明名称 | 磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环，该加固箍环由金属材料构成，其加工的内径尺寸与介质靶的直径尺寸紧配合。本实用新型的磁控溅射介质靶的加固箍环，使用45<SUP>#</SUP>钢、不锈钢或铜等，采用金属机械加工或其他方法制造，按照介质靶的直径、厚度，选取适当的加工尺寸形成与介质靶相配的环状物，其内径大小略小于室温下介质靶的直径尺寸，其宽度可以略小于或等于、或略大于介质靶的厚度，其厚度以保证具有足够的机械强度为宜。将这一金属箍环加热到略高于磁控溅射时介质靶承受的温度，膨胀后其内径尺寸略大于介质靶的直径尺寸，可箍套在介质靶上，冷却到室温时，则紧紧地箍套在介质靶上。 | ||
| 申请公布号 | CN2765321Y | 申请公布日期 | 2006.03.15 |
| 申请号 | CN200420109313.2 | 申请日期 | 2004.12.01 |
| 申请人 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 发明人 | 林立强;朱健 |
| 分类号 | H01L21/31(2006.01);H01L21/283(2006.01);C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | H01L21/31(2006.01) |
| 代理机构 | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人 | 徐冬涛;叶立剑 |
| 主权项 | 1、一种磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环，其特征是加固箍环由金属材料构成，其加工的内径尺寸与介质靶的直径尺寸紧配合。 | ||
| 地址 | 210016江苏省南京市中山东路524号 | ||