| 发明名称 | 膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线 | ||
| 摘要 | 一种膜图案的形成方法，将由含有导电性微粒的液体所构成的液滴喷到衬底上的规定膜形成区域中，形成膜图案，其特征在于：具有在喷出液滴之前在衬底上进行表面处理的表面处理工序，通过表面处理工序，设定对衬底上液体的接触角。接触角特别设定为15度以上45度以下。通过该结构，可提供一种在通过喷墨法形成的膜图案中可以抑制断线或短路等缺陷发生的膜图案的形成方法及形成装置和导电膜布线等。 | ||
| 申请公布号 | CN1245738C | 申请公布日期 | 2006.03.15 |
| 申请号 | CN03160247.9 | 申请日期 | 2003.09.28 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 长谷井宏宣;平井利充 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/3205(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种膜图案的形成方法，将由含有导电性微粒的液体所构成的液滴喷到衬底上的规定膜形成区域中，形成膜图案，其特征在于：具有在喷出所述液滴之前在所述衬底上进行表面处理的表面处理工序，通过所述表面处理工序，设定对所述衬底上所述液体的接触角，且根据所述液滴被喷出到所述衬底上之后的直径来设定所述接触角。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||