发明名称 |
荷电粒子线应用装置 |
摘要 |
提供一种荷电粒子线应用装置。描绘时动态地检测晶片的电位,通过修正该电位,谋求提高在晶片上描绘的电路图形的位置精度。测定了晶片(101,试样)和接地引线(107,接触端子)形成的接触电阻后,测定从晶片(101,试样)经由接地引线(107,接触端子)流到接地电位的电流,根据测定结果将电位差赋予晶片(101,试样)和接地电位之间。 |
申请公布号 |
CN1747131A |
申请公布日期 |
2006.03.15 |
申请号 |
CN200510098852.X |
申请日期 |
2005.09.09 |
申请人 |
株式会社日立高新技术;佳能株式会社 |
发明人 |
谷本明佳;早田康成;菅谷昌和;远山博;堤刚志;染田恭宏 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);H01L21/68(2006.01);H05H1/46(2006.01);H01J37/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
岳耀锋 |
主权项 |
1、一种荷电粒子线应用装置,其特征在于:具有保持试样的试样载物台、对该试样载物台上的试样照射荷电粒子线的单元、以及保持在上述试样载物台上的静电吸附装置;该静电吸附装置备有:具有放置试样的放置面的电介质、设置在该电介质内部的电极、使上述试样达到接地电位用的接触端子、导电性地连接在上述电极上的可变直流电源及直流电源、控制赋予该可变直流电源的电压用的控制单元、以及配置在上述接触端子和接地电位之间的电流测量单元;上述控制单元根据该电流测定单元的测定结果,计算赋予上述可变直流电源的电压。 |
地址 |
日本东京都 |