METHOD FOR EVALUATING THE EFFECTS OF MULTIPLE EXPOSURE PROCESSES IN LITHOGRAPHY,申请号EP20040752670-传众专利搜索

发明名称	METHOD FOR EVALUATING THE EFFECTS OF MULTIPLE EXPOSURE PROCESSES IN LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号	EP1634122(A1)	申请公布日期	2006.03.15
申请号	EP20040752670	申请日期	2004.05.19
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION	发明人	FONSECA, CARLOS, A.;BUKOFSKY, SCOTT, J.;LAI, KAFAI
分类号	G03F7/20;G03C5/00;G03F9/00;(IPC1-7):G03C5/00	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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