| 主权项 |
1.一种真空模组,用于一处理室之真空处理,包括: 一主真空单元,用以使该处理室为一第一真空状态 ; 一辅助真空单元,用以于该处理室至该第一真空状 态,且该主真空单元关闭后,对该处理室为真空处 理至一第二真空状态,该辅助真空单元包括: 一真空缸,该真空缸连接至该处理室; 一真空活塞,由该控制单元控制其动作,由该真空 缸抽取该处理室之空气; 一致动活塞,该致动活塞与该真空活塞连动; 一致动缸,该致动活塞于该致动缸内动作,连动推 动该真空活塞;及 一控制单元,用以控制该主真空单元及该辅助真空 单元之开启及关闭。 2.如申请专利范围第1项之真空模组,该辅助真空单 元另包括:一高压惰气单元及一油压单元,该高压 惰气单元及该油压单元用以控制该致动活塞之动 作,以连动该真空活塞动作。 3.如申请专利范围第1项之真空模组,另包括一第一 微动开关及一第二微动开关,该第一微动开关用以 使该控制单元控制该主真空单元开启,该第二微动 开关用以使该控制单元控制该主真空单元关闭。 4.一种真空压铸法,包括以下步骤: (a)开启一主真空单元,对一模穴进行真空处理; (b)关闭该主真空单元; (c)启动一辅助真空单元,对该模穴进行真空处理; (d)金属熔汤充填于模穴;及 (e)清除该辅助真空单元内之金属熔汤残屑。 5.如申请专利范围第4项之真空压铸法,其中在步骤 (a)中系利用一第一微动开关,监控一柱塞于一第一 位置时,开启该主真空单元。 6.如申请专利范围第4项之真空压铸法,其中在步骤 (b)中系利用一第二微动开关,监控一柱塞于一第二 位置时,关闭该主真空单元。 7.如申请专利范围第4项之真空压铸法,其中在步骤 (c)中系利用一真空缸及一真空活塞,抽取该模穴之 空气。 8.如申请专利范围第7项之真空压铸法,其中在步骤 (e)中系利用一致动缸及一致动活塞,该致动活塞连 动该真空活塞,清除在该辅助真空单元之该真空缸 内之金属熔汤残屑。 图式简单说明: 图1显示本发明之真空模组应用于一压铸机之示意 图; 图2显示本发明真空模组之辅助真空单元启动示意 图; 图3显示以本发明之辅助真空单元为真空处理并完 成压铸之示意图;及 图4显示本发明真空模组之辅助真空单元清除金属 熔汤残屑之示意图。 |
