| 主权项 |
1.一种微影投射装置(1),其包括: 一用于提供一投射辐射束的辐射系统; 一用于支撑图案化构件的支撑结构,该图案化构件 用于根据一所要图案来图案化该投射束; 一用于固持一基板之基板台(WT); 一用于将该图案化射束投射至该基板之一目标部 分上的投射系统(PL);以及 用于将净化气体提供给该微影投射装置之至少部 分的至少一净化气体供应系统(100), 该净化气体供应系统包括: 一净化气体混合物产生(120),其包括经配置成用于 将湿气添加至净化气体之一加湿元件(150),该净化 气体混合物产生器(120)经配置成用于产生一净化 气体混合物,该净化气体混合物包含至少一种净化 气体及该湿气;以及 一净化气体混合物出口(130-132),其连接至该净化气 体混合物产生器,以将该净化气体混合物供应给该 微影投射装置之该至少部分。 2.如请求项1之微影投射装置(1),其中该加湿元件( 150)包括: 具有至少一气体入口(1521、1522)及一气体出口(153) 之一液体容器(151),该气体入口及气体出口经由一 加湿连接而彼此连接,以使得当净化气体流过该加 湿连接时,该净化气体受输送穿过存在于该液体容 器中的一液体(154)且该净化气体已受加湿。 3.如请求项2之微影投射装置(1),其进一步包括连接 至该气体出口之一乾燥气体入口(1522),其用于将一 未加湿的净化气体与穿过该液体(154)输送之该已 加湿净化气体混合,并从而获得该净化气体混合物 。 4.如请求项2或3之微影投射装置(1),其中该加湿连 接为一饱和连接,其用于穿过该液体(154)输送该净 化气体,以利用该湿气将该净化气体加湿至饱和状 态。 5.如请求项2或3项之微影投射装置(1),其进一步包 括连接至该液体容器(151)之一控制元件(157),其用 于控制存在于该净化气体混合物中之至少一定量 之湿气。 6.如请求项1、2或3之微影投射装置(1),其中该净化 气体混合物产生器(120)进一步包括一可再生过滤 器元件(1283、1284),其用于自以下各物之至少其中 之一中过滤至少一种不当组份:该净化气体、该湿 气或该净化气体混合物。 7.如请求项6之微影投射装置,其包括并行连接之两 个可再生过滤器元件(1283、1284),该等过滤器元件 可以一交替方式再生从而允许连续过滤。 8.如请求项1、2或3之微影投射装置(1),其中该净化 气体供应系统(100)进一步包括一净化气体出口(131 、132),该净化气体出口经配置成用于为该微影投 射装置之另一部分提供大体不含湿气的该净化气 体。 9.如请求项1、2或3之微影投射装置(1),其中该湿气 包括水蒸汽。 10.如请求项9之微影投射装置(1),其中该净化气体 混合物包含至少20%Rh之水蒸汽,且较佳不超过70%Rh 。 11.一种用于为一微影投射装置(1)之至少部分提供 净化气体的方法,其包括: 一用于提供一投射辐射束之辐射系统; 一用于支撑图案化构件的支撑结构,该图案化构件 用于根据一所要图案来图案化该投射束; 一用于固持一基板之基板台(WT);以及 一用于将该图案化射束投射至该基板之一目标部 分上的投射系统(PL); 该方法包括以下步骤: 藉由向一净化气体添加一湿气而产生包含至少一 种净化气体及湿气之净化气体混合物;以及 为该微影投射装置之至少一部分供应该净化气体 混合物。 12.一种元件制造方法,其包括以下步骤: 提供至少部分由一层辐射敏感材料覆盖之一基板; 将如请求项11之方法应用于该基板之至少一部分; 提供一投射辐射束; 使用图案化构件赋予该投射束之横截面一图案; 将该图案化之辐射束投射至该辐射敏感材料层之 一目标部分; 藉由将湿气添加至净化气体而产生包含至少一种 净化气体及湿气之净化气体混合物;以及 在该元件制造方法中使用之一组件之一表面附近 供应该净化气体混合物。 13.一种用于为一微影投射装置(1)之至少部分提供 净化气体的净化气体供应系统(100),该净化气体供 应系统包括: 一净化气体混合物产生器(120),其包括一经配置成 为净化气体添加湿气之一加湿元件(150),该净化气 体混合物产生器(120)经配置成用于产生净化气体 混合物,该净化气体混合物包含至少一种净化气体 及该湿气;以及 一净化气体出口(130-132),其用于为该微影投射装置 之该至少部分供应该净化气体混合物。 图式简单说明: 图1示意展示根据本发明之微影投射装置之一实施 例的实例。 图2展示根据本发明之微影投射装置的EUV照明系统 及投射光学系统之侧视图。 图3示意展示根据本发明之净化气体供应系统实例 的电路图。 图4示意展示适用于图3中实例之加湿元件。 |
