| 主权项 |
1.一种碟片成形用模具,其特征在于包括: (a)第一镜面盘; (b)盖印模,装在该第一镜面盘; (c)第二镜面盘,配设成令和该第一镜面盘相向,在 锁模时在和第一镜面盘之间形成模穴空间;以及 (d)调整元件,具有和该盖印模滑动之面,在该第一 镜面盘之外周边之附近向径向外侧令向该模穴空 间侧突出的形成。 2.如申请专利范围第1项之碟片成形用模具,其中该 面系锥面。 3.如申请专利范围第1项之碟片成形用模具,其中令 弯曲的形成该面。 4.如申请专利范围第1项之碟片成形用模具,其中该 调整元件配设成内周边自碟片基板之外周边在径 向内侧0.2~2[mm]之位置。 5.如申请专利范围第1项之碟片成形用模具,其中该 调整元件之外周边之厚度比内周边之厚度大10~50[ m]。 6.如申请专利范围第1项之碟片成形用模具,其中, 该调整元件利用导热性比该第一镜面盘低之材料 形成。 7.一种调整元件,配设于碟片成形用模具,该碟片成 形用模具包括第一镜面盘、装在该第一镜面盘之 盖印模以及配设成令和该第一镜面盘相向之在锁 模时在和第一镜面盘之间形成模穴空间之第二镜 面盘, 其特征在于: (a)具有和该盖印模滑动之面; (b)在该第一镜面盘之外周边之附近,向径向外侧令 向该模穴空间侧突出的形成。 8.如申请专利范围第7项之调整元件,其中,该面系 锥面。 9.如申请专利范围第7项之调整元件,其中,令弯曲 的形成该面。 10.如申请专利范围第7项之调整元件,其中,该调整 元件配设成内周边自碟片基板之外周边在径向内 侧0.2~2[mm]之位置。 11.如申请专利范围第7项之调整元件,其中,该调整 元件之外周边之厚度比内周边之厚度大10~50[m] 。 12.如申请专利范围第7项之调整元件,其中,该调整 元件利用导热性比该第一镜面盘低之材料形成。 13.一种成形方法,转印在可动侧之模具组立体及固 定侧之模具组立体之中之一方之模具组立体所配 设之盖印模之微细图案后将碟片基板成形, 其特征在于: (a)令可动侧之模具组立体向固定侧之模具组立体 移动; (b)在该可动侧之模具组立体和固定侧之模具组立 体之间形成用以充填成形材料之模穴空间; (c)随着向该模穴空间充填树脂,在该盖印模和该一 方之模具组立体接触之状态膨胀时,利用用以调整 碟片基板向外周方向之厚度之变动之调整元件令 盖印模滑动; (d)冷却该模穴空间内之成形材料; (e)随着该成形材料冷却,在该盖印模和该一方之模 具组立体接触之状态收缩时,利用调整元件令盖印 模滑动; (f)令该可动侧之模具组立体向离开固定侧之模具 组立体之方向移动。 图式简单说明: 图1系表示本发明之实施例1之模具装置之主要部 分之剖面图。 图2系本发明之实施例1之模具装置之剖面图。 图3系表示本发明之实施例2之模具装置之主要部 分之剖面图。 |
