apparatus for chemical mechnical polishing in semiconductor manufacuring device,申请号KR20020077984-传众专利搜索

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发明名称	apparatus for chemical mechnical polishing in semiconductor manufacuring device
摘要
申请公布号	KR100557914(B1)	申请公布日期	2006.03.10
申请号	KR20020077984	申请日期	2002.12.09
申请人		发明人
分类号	H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
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