POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LCD, MANUFACTURING METHOD FOR THE POSITIVE PHOTORESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN,申请号KR20040038684-传众专利搜索

发明名称	POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LCD, MANUFACTURING METHOD FOR THE POSITIVE PHOTORESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN
摘要
申请公布号	KR100558125(B1)	申请公布日期	2006.03.10
申请号	KR20040038684	申请日期	2004.05.29
申请人		发明人
分类号	G03F7/022;G02F1/13;G02F1/1343;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/38;H01L21/027	主分类号	G03F7/022
代理机构		代理人
主权项
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